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抛光和研磨在磨料和研具材料的选择上不同。抛光通常使用的是1μm 以下的微细磨粒,抛光盘用沥青、石蜡、合成树脂、人造革和锡等软质金属或非金属材料制成。生产中修砂轮工具主要有修角度、修圆弧砂轮工具、修砂轮工具、靠模修砂轮工具等。在抛光过程中,除机械切削作用外,加工氛围的化学反应起了重要作用。而研磨使用比较硬的金属盘作研具,材料的破坏以微小破碎为主。
抛光属于用微细磨粒进行的切削加工,因此抛光过程会产生微小的划痕,生成细微的切屑;磨粒与抛光盘对工件有摩擦作用,使得接触点温度上升,工件表面产生塑性流动,形成凹凸不平的光滑表面;抛光剂中的脂肪酸在高温下会产生化学反应,从工件金属表面溶析出金属皂,它是一种易于切除的化合物,起着化学洗涤作用,使工件表面平坦光滑;加工环境中由于尘埃、异物的混人也会产生机械作用。由于这些作用的重叠,以及抛光液、磨粒及抛光盘的力学作用,使得工件表面平滑化。当抛光过程停止时,应仔细去除所有研磨剂和润滑剂,保证工件表面整洁,随后应在工件表面喷涂一层模具防锈层。采用工件、磨粒、抛光盘和加工液的不同组合,可实现不同的抛光效果。工件与抛光液、磨料及抛光盘之间的化学反应有助于抛光加工。
我们在进行双平面研磨加工工艺的时候,一般的研磨抛光人员,都会先了解一下关于双平面研磨机的特点,今天,小编就来给大家具体的说说。
1、采用无级调速系统控制,可轻易调整出适合研磨机的各种部件的研磨速度。采用电—气比例阀闭环反馈压力控制,可独立调控压力装置。上盘设置缓降功能,有效的防止薄脆工件的破碎。
2、通过一个时间继电器和一个研磨计数器,可按双平面研磨加工要求准确设置和控制研磨时间和研磨圈数。工作时可调整压力模式,达到研磨设定的时间或圈速时就会自动停机报警提示,实现半自动化操作。抛光时,高速扭转的抛光轮(圆周速率在20米/秒以上)压向工件,使磨料对工件外面发生滚压和微量切削,从而获得光明的加工外面,外面粗拙度一样平常可达Ra0。通过增加厚度光栅尺形成闭环控制,达到设定的厚度会自动停机,实现在线控制生产。
3、主机采用调速电机驱动,配置大功率减速系统。
腐蚀的条件包括:
l 1. 材料的特性:材料的物理,化学性质
l 2. 环境的条件:温度,湿度,流体的速度,含氧量及PH值
l 3. 造成腐蚀的媒体:酸,碱,盐,氧化物,有机物及微生物
1.腐蚀、均匀腐蚀
为单纯的一种腐蚀,金属表面出现一层均匀的腐蚀产物,一般钢铁在大气中的生锈均属这种类型。此形态的腐蚀使金属表面均匀产生一层腐蚀生成物,腐蚀减薄的厚度是均匀一致,常发生于大气的腐蚀或酸液的腐蚀。
2.电流腐蚀(伽凡尼腐蚀)或异金属接触腐蚀
将两种不同金属组合之组织构造置于腐蚀环境(电解液)中,化学性质较活泼或电位较低的金属侧会加速腐蚀,惰性较大(正极)或电位较高的金属则会减慢腐蚀。随着各种新型功能陶瓷材料的不断研制成功,以及这些材料在各种*电子元器件、光学、信息系统等领域的广泛应用,要求元件和零件的加工精度越来越高,有的甚至要求达到纳米级或更高的加工精度以及无损伤的表面加工质量。举例:钢管和铜管相接,则属低电位之钢管会加速腐蚀,此种电位差称为伽凡尼电池,所形成的腐蚀称为异金属腐蚀或伽凡尼腐蚀。
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